چین نے امریکی تکنیکی پابندیوں کے درمیان 2030 تک جدید لیتھوگرافی تیار کرنے کے لیے قومی کوششوں پر زور دیا۔ China urges national effort to develop advanced lithography by 2030 amid U.S. tech restrictions.

چینی سیمی کنڈکٹر لیڈرز 2030 تک جدید لیتھوگرافی سسٹم تیار کرنے کے لیے ایک متحد قومی کوشش پر زور دے رہے ہیں، جس کا مقصد اے ایس ایم ایل کا گھریلو متبادل بنانا ہے۔ Chinese semiconductor leaders are urging a unified national effort to develop advanced lithography systems by 2030, aiming to create a domestic alternative to ASML. وہ چپ ٹیک پر امریکی پابندیوں، چین کی صنعت میں ٹکڑے ٹکڑے، اور ای یو وی لیتھوگرافی، ای ڈی اے سافٹ ویئر، اور اہم مواد میں فرق کو کلیدی چیلنجوں کے طور پر پیش کرتے ہیں۔ They cite U.S. restrictions on chip tech, fragmentation in China’s industry, and gaps in EUV lithography, EDA software, and critical materials as key challenges. اگرچہ انفرادی اجزاء میں پیش رفت ہوئی ہے لیکن انضمام ایک رکاوٹ بنی ہوئی ہے۔ While progress has been made in individual components, integration remains a hurdle. یہ کال تکنیکی خود انحصاری کے لیے چین کے زور کے ساتھ مطابقت رکھتی ہے، جس میں حکومتی تعاون کے ساتھ تحقیقی ہم آہنگی اور آر اینڈ ڈی پلیٹ فارمز پر زور دیا گیا ہے۔ The call aligns with China’s push for technological self-reliance, with government support emphasized for research coordination and R&D platforms.