چین نے عالمی پابندیوں کے درمیان چپ کی آزادی کو آگے بڑھاتے ہوئے پروٹو ٹائپ ای یو وی لیتھوگرافی مشین تیار کی ہے۔ China builds prototype EUV lithography machine, advancing chip independence amid global restrictions.

2025 کے اوائل میں، شینزین میں چینی محققین نے ایک پروٹو ٹائپ انتہائی بالائے بنفشی (ای یو وی) لیتھوگرافی مشین مکمل کی، جو ڈچ کمپنی اے ایس ایم ایل کی ٹیکنالوجی کو ریورس انجینئرنگ کے ذریعے جدید سیمی کنڈکٹر چپس تیار کرنے کا ایک اہم قدم ہے۔ In early 2025, Chinese researchers in Shenzhen completed a prototype extreme ultraviolet (EUV) lithography machine, a key step in producing advanced semiconductor chips, by reverse-engineering Dutch company ASML’s technology. سابق اے ایس ایم ایل انجینئروں کے ذریعہ تیار کردہ یہ مشین ای یو وی لائٹ پیدا کرتی ہے اور فیکٹری کے فرش پر کام کرتی ہے لیکن ابھی تک کام کرنے والی چپس تیار نہیں کی ہیں۔ Built by former ASML engineers, the machine generates EUV light and operates on a factory floor but has not yet produced working chips. یہ منصوبہ، صدر شی جن پنگ کے مشیر ڈنگ شوئشیانگ کی قیادت میں چھ سالہ قومی کوشش کا حصہ ہے اور اس میں ہواوے اور ریاستی لیبارٹریز شامل ہیں، جس کا مقصد امریکہ اور ڈچ برآمدی کنٹرول کے درمیان سیمی کنڈکٹر کی خود کفالت حاصل کرنا ہے۔ The project, part of a six-year national effort led by President Xi Jinping’s advisor Ding Xuexiang and involving Huawei and state labs, aims to achieve semiconductor self-sufficiency amid U.S. and Dutch export controls. اگرچہ چین کو اب بھی بڑے تکنیکی چیلنجوں کا سامنا ہے، خاص طور پر صحت سے متعلق اجزاء میں، اس پیش رفت سے پتہ چلتا ہے کہ پیشرفت ایک دہائی طویل ٹائم لائن کے پہلے تخمینوں سے زیادہ تیز ہوسکتی ہے، کچھ ماہرین اب 2030 تک ایک ورکنگ چپ پیش کر رہے ہیں۔ While China still faces major technical challenges, particularly in precision components, the breakthrough suggests progress may be faster than earlier estimates of a decade-long timeline, with some experts now projecting a working chip by 2030.