یو ایل وی اے سی اور ایس اے ایل بڑے پیمانے پر پتلی فلم لیتھیم نیوبیٹ مینوفیکچرنگ کے لیے پلازما ایچنگ تیار کرنے کے لیے شراکت دار ہیں۔ ULVAC and SAL partner to develop plasma etching for large-scale thin-film lithium niobate manufacturing.

یو ایل وی اے سی اور سلیکون آسٹریا لیبز (ایس اے ایل) نے بڑے پیمانے پر پتلی فلم لیتھیم نیوبیٹ (ٹی ایف ایل این) کی تیاری کے لئے پلازما ایچنگ کے عمل کو تیار کرنے کے لئے مل کر کام کیا ہے۔ ULVAC and Silicon Austria Labs (SAL) have teamed up to develop plasma etching processes for manufacturing thin-film lithium niobate (TFLN) on a large scale. یہ مواد اعلی کارکردگی اور کم نقصان کی وجہ سے جدید نظری آلات کے لیے بہت اہم ہے۔ This material is crucial for advanced optical devices due to its high efficiency and low loss. یو ایل وی اے سی کے پلازما نقاشی کے نظام کا استعمال کرتے ہوئے، شراکت داری کا مقصد ٹی ایف ایل این کے انضمام اور توسیع پذیری کو بہتر بنانا ہے، جس سے اعلی ڈیٹا مواصلات کے حجم کی بڑھتی ہوئی مانگ کو پورا کیا جا سکے۔ Using ULVAC's plasma etching system, the partnership aims to improve TFLN's integration and scalability, addressing the increasing demand for higher data communication volumes.